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国产光刻机现在是什么水平？

浪起激光2020-06-16119051
中国的芯片制造是中国科技界心中永远的伤痛。

虽然现在我们可以独立制造出中低端的芯片，但对于高端芯片仍然无能为力，就因为我们没有制造高端芯片的光刻机！
有人断言，EUV光刻机太先进了，如果我国未来5年可以买到，就能够保证至少10年的半导体产业发展，那中国将会成为难以压制的对手。然而，无奈的是，中芯国际多次向ASML提出购买光刻机设备，却因为美国的阻挠等种种原因，ASML久久未能交货。
按照用途，光刻机可分为生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机、用于LED制造领域的投影光刻机这三种。其中用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。国内在这一领域差距太大，要想在短期内实现国产替代并不现实。
那国产的光刻机目前达到什么水平了？
目前，中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，这就好比2020年的电脑还在使用2004年最新款的intel奔腾四处理器，也即是说，中国光刻机与荷兰光刻机之间有着至少15年的差距……
据媒体报道，上海微电子装备公司新一代的28nm浸没式光刻机预计今年可以完成，但即使顺利也得明年才能导入产线试产。

国产光刻机现在是什么水平？

此前，我国在重大专项计划中提出，2020年要实现22nm制程光刻机的突破，但目前还没有成功的消息。即便实现这一突破，距离最先进的7nm以下的EUV光刻机仍然遥远。
但好消息是，由于该技术进步空间非常有限，随着制程的不断缩小，继续压缩制程的难度越来越大，留给我们还有相对充足的追赶时间。
只是我国在自主研发制造光刻机这件事上，因为美国的技术封锁，需要拿出单挑全世界的大气魄，跟整个西方科技界死磕到底！


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