国产光刻机现在是什么水平?

浪起激光3年前129635
中国的芯片制造是中国科技界心中永远的伤痛。

虽然现在我们可以独立制造出中低端的芯片,但对于高端芯片仍然无能为力,就因为我们没有制造高端芯片的光刻机!
有人断言,EUV光刻机太先进了,如果我国未来5年可以买到,就能够保证至少10年的半导体产业发展,那中国将会成为难以压制的对手。然而,无奈的是,中芯国际多次向ASML提出购买光刻机设备,却因为美国的阻挠等种种原因,ASML久久未能交货。
按照用途,光刻机可分为生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机、用于LED制造领域的投影光刻机这三种。其中用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。国内在这一领域差距太大,要想在短期内实现国产替代并不现实。
那国产的光刻机目前达到什么水平了?
目前,中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司(SMEE),它可以做到的最精密的加工制程是90nm,这就好比2020年的电脑还在使用2004年最新款的intel奔腾四处理器,也即是说,中国光刻机与荷兰光刻机之间有着至少15年的差距……
据媒体报道,上海微电子装备公司新一代的28nm浸没式光刻机预计今年可以完成,但即使顺利也得明年才能导入产线试产。

国产光刻机现在是什么水平?

此前,我国在重大专项计划中提出,2020年要实现22nm制程光刻机的突破,但目前还没有成功的消息。即便实现这一突破,距离最先进的7nm以下的EUV光刻机仍然遥远。
但好消息是,由于该技术进步空间非常有限,随着制程的不断缩小,继续压缩制程的难度越来越大,留给我们还有相对充足的追赶时间。
只是我国在自主研发制造光刻机这件事上,因为美国的技术封锁,需要拿出单挑全世界的大气魄,跟整个西方科技界死磕到底!


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