冷光源“uv激光器”的原理
产生激光的必不可少的条件就是离子数反转或者增益大于损耗，所以装置中必不可少的组成部分有激励(或抽运)源、具有亚稳态能级的工作介质两个部分。激励是工作介质吸收外来能量后激发到激发态,为实现并维持粒子数反转创造条件。激励方式有光学激励、电激励、化学激励和核能激励等。按运转方式分类激光器类型
激光工作物质是指用来实现粒子数反转并产生光的受激辐射放大作用的物质体系，有时也称为激光增益媒质，它们可以是固体(晶体、玻璃)、气体(原子气体、离子气体、分子气体)、半导体和液体等媒质。对激光工作物质的主要要求,是尽可能在其工作粒子的特定能级间实现较大程度的粒子数反转，并使这种反转在整个激光发射作用过程中尽可能有效地保持下去;为此，要求工作物质具有合适的能级结构和跃迁特性。
而我们所说的紫外激光器是按照输出波段的范围分类的，主要与红外激光和可见激光做比较,红外激光和可见光通常靠局部的加热使物质熔化或者气化的方式来加工，但是这种加热会使物质周围遭到破坏因而限制了边缘强度和产生小精细特征的能力。紫外激光直接破坏连接物质原子组分的化学键，这种被称为“冷”过程的方式不产生对外围的加热而是直接将物质分离成原子
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