1、将激光打标机的场镜变成小范围的场镜，变换了之后，其打标的深度也会更深，比如目前的半导体激光打标机都能通配110的场镜，变成了50的场镜，其总的激光能量及刻字深度将达到之前约有2倍的效果;
2、将激光打标机的功率加大，这是一种最为直接的调节方法;
3、将激光打标机的打标速度调慢，同样的功率，同样的其他参数下，只是修改打标时的速度，打标的深度当然会深一点了;
4、将激光打标机的激光模式变得更好的话，其打标深度也有一定的提升，比如半导体激光打标机的话，加上小孔，增加制冷精度，调好激光模式出光，使得激光最大，最圆，最亮;
5、更换进口的场镜也能将打标的刻字深度变得更深。
6、更换激光器，换成功率更的的地种激光器，直接将激光打码 机的刻字深度提升
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